第9章 實體設計進階#

佈局繞線之後，晶片還必須「供電穩定、時脈乾淨、製造得出來」。本章介紹三個實體設計後段的關鍵演算法：時脈樹合成（讓時脈抵達所有正反器的偏差最小）、電源網路分析（IR 壓降與電遷移的網路求解）、以及可製造性設計（把製程變異納入版圖的修正演算法）。這三個主題共同點是「物理效應的數學建模」：CTS 以 Elmore 延遲平衡 RC 樹，電源分析以稀疏線性系統（MNA）解壓降場，DFM 則以光學模型與圖著色對抗微影極限。它們也分別動用了樹上的不動點、共軛梯度迭代與 FFT 卷積等數值方法，是全書中「數學工具箱」最豐富的一章。